半导体隔离技术的演进是推动集成电路性能提升的关键因素之一。下面将从局部氧化隔离（LOCOS）到浅沟槽隔离（STI）及其优化、应变硅技术、应变工程优化，以及 STI 尺寸微缩进行详细解析。 1.局部氧化 …
