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[新启航]白光干涉仪在光电化学深沟槽刻蚀在氮化镓衬底的 3D 轮廓测量
24天前摘要：本文研究白光干涉仪在光电化学深沟槽刻蚀后的氮化镓（GaN）衬底 3D 轮廓测量中的应用，分析其工作原理及适配 GaN 材料与深沟槽结构的技术优势，通过实际案例验证测量精度，为光电化学刻蚀工艺的质 …
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[新启航]白光干涉仪在晶圆湿法刻蚀工艺后的 3D 轮廓测量
2个月前引言 晶圆湿法刻蚀工艺通过化学溶液对材料进行各向同性或选择性腐蚀，广泛应用于硅衬底减薄、氧化层开窗、浅沟槽隔离等工艺，其刻蚀深度均匀性、表面平整度、侧向腐蚀量等参数直接影响器件性能。例如，MEMS 传 …