之前已经聊过28nm 的HKMG ，今天来聊一下HKMG 里面的HK 是怎么dep 的，对HKMG 还不是很清楚的朋友，可以参考以下两篇，聊一聊 28nm 的HKMG聊一聊功函数 work function一.HK Loop Flow 1.先长 IL 2.用Hfcl4 和 H2O ALD 的方式dep HK HfO2 3.HK capping layer, 通常是TIN ，成熟工艺用PVD TIN ，先进工艺用ALD 4.Post Metal anneal 5.Si cap 6. Post cap anneal 7. Si Remove二.HK 怎么长机台：主流ASM pulsar 3000反应方式：ALD 方式Precursor: HfCL4, H2O反应过程：Dep rate：~0.5A/cycle ASM 的机台太稳了，HK这道把inline THK maintain好，好像没啥case，今天这篇就先到这里吧