本期给大家带来的是关于接触热阻理论计算与实验的研究内容,希望对大家有帮助。
一、核心计算模型:随机粗糙峰接触理论
定义:
此模型将粗糙表面视为随机分布的微凸体(粗糙峰),通过统计方法计算实际接触面积与热流路径。
参数说明:
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kg:间隙介质导热系数(空气≈0.026 W/m·K)
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ks:两种材料的等效导热系数,ks=2k1k2/(k1+k2)
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Ac:实际接触面积(关键变量)
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Anom:名义接触面积
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δeff:等效间隙厚度(≈0.8×粗糙度算术平均值)
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σrms:表面均方根粗糙度(Ra→Rq转换:Rq≈1.11×Ra)
二、实际接触面积 AcAc的计算
1.基于赫兹接触理论:
定义:
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P:接触压力(Pa)
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Heff:等效硬度(Heff=2H1H2/(H1+H2))
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Cf:接触系数(与粗糙度相关,典型值0.05~0.5)
2.粗糙度修正系数 Cf的取值
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若需快速验证,可采用修正的平行平板模型:
适用条件:
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接触压力 >1MPa -
表面粗糙度 Ra <6.3μm -
误差约±20%
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|---|---|---|
| 接触压力↑ |
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| 粗糙度↑ |
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| 硬度↑ |
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| 导热系数↑ |
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ksKxs
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压力与粗糙度的交互影响最强,接触热阻在很多情况下是关于压力的函数。
下图中显示了接触热阻跟压力的关系,三根曲线分别是接触面是本体本身的材料,即接触面为空气。除此之外还有氦气跟导热脂。
低压力区粗糙度影响剧烈,高压区趋于平缓,即压力很小时热阻很大,随着压力的增加热阻逐渐减小,直到到达一个稳定的值。
值得注意的是:很多情况下,接触面的压力并不是平均分布的。
计算步骤:
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等效粗糙度 δeff=0.8×(0.4+0.8)/2=0.48μm
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等效硬度 Heff=2×800×600800+600=685 MPa
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Cf取值(Ra均=0.6μm → 选0.25) -
Ac=10^−4×min(1,2/685×0.25)=1.17×10^−5m2 -
代入核心公式得 Rc≈1.2×10^−3K/W

1.界面填充
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涂导热脂(kg从0.026→0.2~5 W/m·K) -
加金属箔(铜箔可提升 Ac30%以上)
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抛光至Ra<0.1μm(Rc降低60%) -
镀金/银层(提高 ks并减少氧化)
一、直接测量法
- 激光共聚焦显微镜
通过三维形貌重建,计算接触峰点数量及微观接触面积(精度达±0.1μm)。 - 白光干涉仪
适用于透明或反光材料,可量化表面粗糙度(Ra、Rq)与接触峰分布。 操作流程
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样品表面清洁处理(避免粉尘干扰);
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施加预设接触压力,扫描接触区域;
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软件分析实际接触面积占比(如Greenwood-Williamson模型)
2.电学接触电阻反推法
四探针法:测量接触电阻率(Ω·cm²),结合材料电阻率ρ,反推实际接触面积:
其中 L为电流路径长度,Rc为接触电阻。
适用场景:金属材料(如铜排、电池极耳),误差<5%
二、间接计算与模型预测法
1.分形几何模型
基于表面粗糙度的分形维数(D),计算接触面积:
其中 P 为接触压力,H 为材料硬度。
优势:避免传统统计模型对表面形貌的简化假设。
2.有限元仿真反演
建立包含表面粗糙度的接触模型(如ANSYS),通过热-力耦合分析:
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输入名义压力与材料形变参数;
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输出接触区域应力分布,提取实际接触面积。
校准:需结合光学测量数据修正模型。
三、工程优化与误差控制
1.表面处理提升测量精度
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抛光/镀层:降低表面粗糙度(Ra<0.4μm),减少接触点离散性。
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软性填充材料:如导热硅脂,填充微间隙以增大有效接触面积。
2.动态工况补偿
温压耦合修正:高温下材料软化会增加实际接触面积,需实时监测:
α为材料热膨胀系数。
四、典型场景应用对比
| 方法 | 精度 | 适用场景 | 局限性 |
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实用建议:
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研发阶段:光学扫描+分形模型验证基础参数; -
量产检测:四探针法快速筛查(如动力电池模组)
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接触压力需按ISO 4287标准控制(推荐1-10MPa); -
环境温湿度恒定(23±1℃,RH 50±5%)
实际接触面积通常仅为名义面积的 0.01%-2%(高压工况可达5%)。
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